单面胶 - OFweek电子工程网

更新时间：2023-12-25 作者：米乐体育网页版官网

  现在的芯片制作工艺，均是光刻工艺，即经过光学--化学反应原理，将电路图传递到硅晶圆上，构成有用的电路图形。 而光刻工艺过程中，除了光刻机这种设备之外，还有一种化学材料必不可少，那就是光刻胶，它是光刻工艺中最中心的耗材，其功能决议着光刻质量

  【聚集】负性光刻胶可运用于显现器材、半导体等范畴 我国职业开展面对应战

  近年来，受下流运用开发力度缺乏等要素约束，我国聚异戊二烯设备开工率较低，导致需求高度依靠进口。原材料供给缺乏为负性光刻胶职业开展带来必定应战。 光刻胶品种丰厚，依照化学反应机理和显影原理不同，可分为正性光刻胶和负性光刻胶两类

  前不久有传言表明，日本或许会履行美国“实体清单”的约束要求，关于大陆的晶圆厂断供KrF光刻胶

  泛林集团、Entegris 和 Gelest 携手推动 EUV 干膜光刻胶技能 生态系统

  这一运用突破性技能的协作将为全球芯片制作商供给强壮的化学品供给链，并支撑下一代 EUV 运用的研制北京时间2022年7月15日——泛林集团 （NASDAQ： LRCX）、Entegris， Inc．